ASML využíva technológiu Mapper Lithography pre kontrolu čipov
ASML využíva technológiu Mapper Lithography s viacerými lúčmi na zefektívnenie kontroly čipov. Nové nástroje dokážu detegovať chyby v naskladaných vrstvách a ASML integruje litografické a inšpekčné nástroje pre neustále zlepšovanie výroby.
Nedávno sa objavili zaujímavé informácie o nových nástrojoch na kontrolu čipov od spoločnosti ASML. Zdá sa, že ASML využila technológiu od holandskej spoločnosti Mapper Lithography, ktorá v minulosti neuspela s vlastnými ambíciami v oblasti litografie. Video od Asianometryho hĺbkovo analyzuje túto zaujímavú spojitosť a vysvetľuje, ako multibeam technológia môže zmeniť spôsob, akým kontrolujeme čipy počas výroby. Poďme sa na to pozrieť bližšie!
Elektronická priama kresba (EBDW) – vysoké rozlíšenie, nízka efektivita
Elektronická priama kresba (EBDW) je technológia, ktorá umožňuje vytvárať čipové návrhy priamo na doštičku pomocou zameraného elektronového lúča. Ponúka vynikajúce rozlíšenie – pod 10 nanometrov – a flexibilitu v dizajne, pretože nepotrebuje fotomasku. Problém však spočíva v jej pomalej efektivite. Jediný lúč skenuje doštičku hodiny alebo dokonca dni, čo ju robí nevhodnú pre rozsiahlejšiu výrobu a obmedzuje ju na masky a prototypy.
